TFT-LCD fabrikazio-prozesuan CVD deposizio-prozesuan erabiltzen den gas berezia: silanoa (S1H4), amoniakoa (NH3), fosforoa (pH3), barrea (N2O), NF3, etab., eta prozesu-prozesuaz gain, purutasun handia. hidrogenoa eta purutasun handiko nitrogenoa eta beste gas handi batzuk.Argon gasa sputtering-prozesuan erabiltzen da, eta sputtering filmaren gasa sputtering material nagusia da.Lehenik eta behin, filma eratzen duen gasa ezin da xedearekin kimikoki erreakzionatu, eta gas egokiena gas geldoa da.Grabaketa-prozesuan gas berezi kopuru handia ere erabiliko da, eta gas berezi elektronikoa gehienbat sukoia eta leherkorra da, eta gas oso toxikoa, beraz, gasaren bidearen baldintzak handiak dira.Wofly Technology garbitasun ultra altuko garraio-sistemen diseinuan eta instalazioan espezializatuta dago.
Gas bereziak LCD industrian erabiltzen dira batez ere filmak osatzeko eta lehortzeko prozesuetarako.Kristal likidoen pantailak sailkapen ugari ditu, non TFT-LCD azkarra den, irudien kalitatea altua den eta kostua pixkanaka murrizten den eta gaur egun LCD teknologiarik erabiliena erabiltzen da.TFT-LCD panelaren fabrikazio-prozesua hiru fase nagusitan bana daiteke: aurrealdeko array-a, erdi-orientatutako boxeo-prozesua (CELL) eta etapa osteko moduluaren muntaketa-prozesua.Gas berezi elektronikoa, batez ere, aurreko array-prozesuaren filmaren eraketa eta lehortze fasean aplikatzen da, eta SiNX ez-metalezko film bat eta atea, iturria, draina eta ITO bat metatzen dira, hurrenez hurren, eta metalezko film bat, hala nola ate bat, iturburua,drainaetaITO.
Argitalpenaren ordua: 2022-01-13