Gas ultra-altuak funtsezkoak dira erdieroaleen hornidura katean zehar. Izan ere, oso aproposa, garbitasun handiko gasak dira, silizioaren beraren ondoren materialen gastu handiena. Txiparen gabezia globalaren ondorioz, industria inoiz baino azkarrago zabaltzen ari da, eta garbitasun handiko gasaren eskaria handitzen ari da.
Erdieroaleen fabrikazioan gehien erabiltzen diren gasak nitrogenoak, helioa, hidrogenoa eta argona dira.
Nitrogen
Nitrogenoak gure giroaren% 78 osatzen du eta oso ugaria da. Kimikoki inerte eta ez-eroalerik ez izatea ere gertatzen da. Ondorioz, nitrogenoak industria ugari aurkitu ditu gas inerte errentagarri gisa.
Erdieroaleen industria nitrogenoaren kontsumitzaile nagusia da. Erdieroaleen fabrikazio lantegi moderno batek ordu bakoitzeko nitrogeno kubikoko 50.000 metro kubiko erabiltzea espero da. Erdieroaleen fabrikazioan, nitrogenoek helburu orokor gisa jokatzen dute gasa inerteatu eta garbitzea, silikonazko ogibide sentikorrak airean oxigeno erreaktibo eta hezetasunetik babestuz.
Helium
Helioa gas inerte bat da. Horrek esan nahi du, nitrogenoa bezala, helioa kimikoki inertea dela, baina eroankortasun termiko altuaren abantaila gehigarria ere badu. Hau bereziki erabilgarria da erdieroaleen fabrikazioan, energia handiko prozesuetatik berotasuna modu eraginkorrean egiteko eta kalte termikoetatik eta nahi ez diren erreakzio kimikoetatik babesten lagundu dezaten.
Hidrogeni
Hidrogenoa modu zabalean erabiltzen da elektronikaren fabrikazio prozesuan zehar, eta Ekoizpen erdieroalea ez da salbuespena. Bereziki, hidrogenoa erabiltzen da:
Lertaketa: Silizioko ogiak normalean tenperatura altuetara berotzen dira eta poliki-poliki hozten dira crystal egitura konpontzeko. Hidrogenoa beroa modu uniformean transferitzeko erabiltzen da eta kristal egitura berreraikitzen laguntzeko.
Epitaxia: purutasun ultra-altua hidrogenoa eragile murriztaile gisa erabiltzen da silizioa eta germanioa bezalako material erdieroaleen gordailu epituxialean.
Meposizioa: hidrogenoa silikonetako filmetan dopatu daiteke, egitura atomikoa desordenatuagoa izan dadin, erresistentzia handitzen laguntzeko.
Plasma garbiketa: hidrogeno plasma bereziki eraginkorra da Litografian erabilitako argi iturrietatik eztainuaren kutsadura kentzeko.
Argonte
Argon beste gas noble bat da, beraz, nitrogeno eta helio gisa erreaktibitate baxua erakusten du. Hala ere, argonen ionizazio baxuko energia erabilgarria da aplikazio erdieroaleetan. Ionizazio erraztasun erlatiboa dela eta, argonak ohiko plasma gas gisa erabiltzen da, etf eta depositazio erreakzioak erdieroaleen fabrikazioan. Honetaz gain, argon ere erabiltzen da LASTOGRAFERAKO LASTOGRAFIKOAK.
Zergatik Garbitasun Gaiak
Normalean, erdieroaleen teknologiaren aurrerapenak tamaina eskalatzearen bidez lortu dira, eta erdieroaleen teknologiaren belaunaldi berria ezaugarri txikiagoak dira. Horrek hainbat onura ematen ditu: transistore gehiago bolumen jakin batean, korronte hobeak, energia kontsumo txikiagoa eta aldatzeko azkarragoa.
Hala ere, tamaina kritikoa gutxitzen denez, gailu erdieroaleak gero eta sofistikatuagoak dira. Atomo indibidualen posizioa gai den mundu batean, akatsen tolerantziaren atalaseak oso estuak dira. Ondorioz, prozesu erdieroale modernoek prozesuko gasak ahalik eta garbitasun handiena eskatzen dute.
Wofly Gas Aplikazio Sistemaren Ingeniaritzako Teknologia handiko enpresa da. Laborategiko gasaren zirkuitu sistema, gasaren gasaren (likidoa). gunea, sistema proba orokorra, mantentze-lanak eta bestelako produktuak modu integratuan.
Posta: 20123-11 uzt